青山湖微納技術研發開放平臺（以下簡稱“開放平臺”）是由浙江省人民政府與中電?？导瘓F共同投資建設的一個國內先進的新型高端芯片研發中試基地。項目采用12英寸、28納米集成電路制造工藝，引進浸沒式光刻機、金屬物理氣相沉積和透射電子顯微鏡等設備，致力于建設成為國內領先、國際一流，集研發和產業化于一體的微納技術研發開放平臺。開放平臺主要面向國內從事與微納技術相關的企業、高校和科研院所，提供新型存儲器、新一代圖像傳感器等產品從技術研發到中試生產的服務。

本開放平臺具有以下特點：

1.???? 完備性。平臺集成了基于先進光刻工藝的芯片研發的整體設備，實現了從基片到成品的工藝完整性，擁有常規和個性化的檢測設備，適合于新型集成化電子器件的研發。

2.???? 先進性。平臺可以實現28納米線寬的器件光刻，是國內最先進的微電子特色工藝加工開放平臺。

3.???? 獨特性與唯一性。平臺是國內唯一、國際上也為數不多的同時具備研發與加工微電子半導體器件、自旋電子器件、傳感器等器件的技術平臺。

4.???? 具有產品試制和小批量生產供貨的能力。平臺可以進行新型器件的研發，也可以在器件研發成功的基礎上進行中試和小批量生產，為大批量生產奠定基礎，可以縮短從研發到量產的進程。

5.???? 具備中試和規?；慨a的無縫連接。平臺具有跟量產線無縫對接的設計、廠房、設備等，可以縮短中試轉量產的時間，減少轉移的技術風險。